晶华光电

公司简介： 
    晶华石英光电股份有限公司，于1997年成立，为国内第一家生产石英晶体组件之制造商，也是第一家自行设计并生产供应光学低通滤波芯片的厂商。产品范围涵盖CCD、CMOS所使用之OLPF(光学低通滤波器)－应用于数码相机、手机和监视器等, 也涵盖石英震荡器之电子级晶棒材料(应用于消费性、通信及信息产品)及光通讯镀膜光学组件。
    本公司除了专注于光学组件的研发与生产，也是台湾第一家引进离子辅助电子束膜系统设备及镀膜技术的厂家，为光通讯精密镀膜技术之指针。本公司经营团队结合了光学界、光学镀膜界与石英加工技术之精英人才，一向以技术为本位提供优质产品与服务，深获国内外业界各厂商的好评。
    2000年公司在无锡建厂，取名 晶华光电(无锡)有限公司。登记资本额1000万美元,实收资本额796.6万美元,总投资金额1991万美元。土地总面积30,292平方米。建物面积，长晶厂3,700平方米，光学厂5,869平方米，办公楼1,250平方米。
    产品主要分为二大类，一是人工水晶，包含电子设备使用之电子级晶棒以及光学用途之光学晶棒。一是光学晶片，范围涵盖多种光学元件，包含了数码相机、监控用摄像机、电脑摄像头等各种影像输入设备所使用之光学低通滤波器(OLPF)及红外截止滤光片(IR-Cut Filter)，以及DWDM、CWDM、Edge Filter等应用于光通讯之光学元件，及应用于DVD、数位投影机、背投电视等多种设备所使用之光学元件及其它专业镀膜之光学元件。   
关键技术来源：
石英晶体材料:
   晶华光电之长晶技术是由日本希华株式会社(原名电株式会社)技术转移而得。
公司相关历史沿革：
1995年  开发光学低通滤波元件，并取得台湾专利权第359369号
1997年  设立韦晶科技－台湾厂
1998年  引进德国离子辅助电子束光学镀膜机
1999年  开发光通讯元件，高密度波长多工器
2000年  设立晶华光电－无锡厂(“晶华光电无锡有限公司”)
2001年  通过ISO-9001认证
2003年  变更台湾公司名称为“晶華石英光电股份有限公司”
2004年  成立晶华光电驻深圳办事处
2005年  通过ISO-14000认证